Vrijdag 19 april 2024

Samsung ontwikkelt 2d-materiaal voor isolatie dram- en nand-interconnects


  • 07-07-2020
  • Bron tekst / afbeelding: Tweakers

Samsung meldt tweedimensionaal amorf boornitride ontwikkeld te hebben met eigenschappen die het materiaal geschikt maken als isolator voor chipinterconnects. Een laagje van het materiaal zou elektrische verstoring van interconnects goed kunnen tegengaan.

Lees het hele artikel op Tweakers »